首页-企业官网

致力于研发和制造优质的DUV晶体氟化物

ꂃ ꁹ

新闻中心

NEWS CENTER

产品展示

PRODUCTS

氟化铝

代码: 300300 产品名称: 氟化铝分子式: AlF3 包装: 1000g/瓶
熔点：928℃ 折射率：1.35@550nm 透明区域：0.2-8um 蒸发源：钼舟/铜坩埚/钼坩埚/钨坩埚

¥ 0.00

立即购买

低氧氟化镧

代码: 307401 产品名称: 低氧氟化镧分子式: LaF3 包装: 1000g/瓶
熔点：1495℃ 折射率：1.59@550nm 透明区域：0.25-12um 蒸发源：钼舟/铜坩埚/钼坩埚/钨坩埚

¥ 0.00

立即购买

氟化镨

代码: 311300产品名称: 氟化镨分子式:PrF3 包装: 1000g/瓶熔点：1400℃ 折射率：1.51@550nm

¥ 0.00

立即购买

氧化铪

代码: 600502 产品名称: 氧化铪分子式: HfO2 包装: 1000g/瓶
熔点：2812℃ 折射率：1.95@550nm 透明区域：0.2-11um 蒸发源：铜坩埚/钼坩埚/钨坩埚

¥ 0.00

立即购买

넳 넲

公司批量恢复HfO2生产

넶31 2025-06-26
公司开展ISO9001:2015质量体系年度复审工作

公司于2025年6月12日开展ISO9001:2015质量体系年度复审工作

넶29 2025-06-16
第二十四届江苏省光学薄膜技术交流会

넶51 2025-05-16

XC/3S

XTC/3 带有专利 ModeLock，提供跳模预防功能，确保获得始终如一的质量。使用 XTC/3 薄膜沉积控制器，您可以高度精准地控制沉积速率和厚度，获得几乎适用于所有层的容量，而且控制器安装简便，具有极高可靠性，可确保高生产力。

¥ 0.00

立即购买